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Ieee Photonics Journal SCIE

Ieee Photonics Journal

  • ISSN:1943-0655
  • ESSN:1943-0647
  • 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱(chēng):IEEE PHOTONICS J
  • 出版地區(qū):UNITED STATES
  • 出版周期:6 issues/year
  • 研究方向:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - OPTICS
  • 出版年份:2009
  • 語(yǔ)言:English
  • 是否OA:開(kāi)放
  • 學(xué)科領(lǐng)域

    工程技術(shù)
  • 中科院分區(qū)

    4區(qū)
  • JCR分區(qū)

    Q2
  • IF影響因子

    2.1
  • 是否預(yù)警

期刊簡(jiǎn)介

Journal Title:Ieee Photonics Journal

Breakthroughs in the generation of light and in its control and utilization have given rise to the field of Photonics, a rapidly expanding area of science and technology with major technological and economic impact. Photonics integrates quantum electronics and optics to accelerate progress in the generation of novel photon sources and in their utilization in emerging applications at the micro and nano scales spanning from the far-infrared/THz to the x-ray region of the electromagnetic spectrum. IEEE Photonics Journal is an online-only journal dedicated to the rapid disclosure of top-quality peer-reviewed research at the forefront of all areas of photonics. Contributions addressing issues ranging from fundamental understanding to emerging technologies and applications are within the scope of the Journal. The Journal includes topics in: Photon sources from far infrared to X-rays, Photonics materials and engineered photonic structures, Integrated optics and optoelectronic, Ultrafast, attosecond, high field and short wavelength photonics, Biophotonics, including DNA photonics, Nanophotonics, Magnetophotonics, Fundamentals of light propagation and interaction; nonlinear effects, Optical data storage, Fiber optics and optical communications devices, systems, and technologies, Micro Opto Electro Mechanical Systems (MOEMS), Microwave photonics, Optical Sensors.

中文簡(jiǎn)介

光的產(chǎn)生、控制和利用方面的突破催生了光子學(xué)領(lǐng)域,這是一個(gè)發(fā)展迅速的科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,對(duì)技術(shù)和經(jīng)濟(jì)產(chǎn)生了重大影響。光子學(xué)將量子電子學(xué)和光學(xué)相結(jié)合,以加速新型光子源的產(chǎn)生及其在微觀和納米尺度新興應(yīng)用中的利用,這些應(yīng)用范圍從遠(yuǎn)紅外/太赫茲到電磁波譜的 x 射線(xiàn)區(qū)域。IEEE 光子學(xué)雜志是一本在線(xiàn)期刊,致力于快速披露光子學(xué)所有領(lǐng)域最前沿的高質(zhì)量同行評(píng)審研究。該期刊涵蓋從基礎(chǔ)理解到新興技術(shù)和應(yīng)用等各種問(wèn)題的投稿。該期刊包括以下主題:從遠(yuǎn)紅外到 X 射線(xiàn)的光子源、光子材料和工程光子結(jié)構(gòu)、集成光學(xué)和光電子、超快、阿秒、高場(chǎng)和短波光子學(xué)、生物光子學(xué)(包括 DNA 光子學(xué))、納米光子學(xué)、磁光子學(xué)、光傳播和相互作用的基本原理;非線(xiàn)性效應(yīng)、光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、光纖和光通信設(shè)備、系統(tǒng)和技術(shù)、微光機(jī)電系統(tǒng) (MOEMS)、微波光子學(xué)、光學(xué)傳感器。

期刊點(diǎn)評(píng)

Ieee Photonics Journal創(chuàng)刊于2009年,由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版,收稿方向涵蓋ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - OPTICS全領(lǐng)域,此期刊水平偏中等偏靠后,在所屬細(xì)分領(lǐng)域中專(zhuān)業(yè)影響力一般,過(guò)審相對(duì)較易,如果您文章質(zhì)量佳,選擇此期刊,發(fā)表機(jī)率較高。平均審稿速度 約1.0個(gè)月 ,影響因子指數(shù)2.1,該期刊近期沒(méi)有被列入國(guó)際期刊預(yù)警名單,廣大學(xué)者值得一試。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級(jí)版)

大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

名詞解釋?zhuān)?br />中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個(gè)大類(lèi)學(xué)科,然后按照各類(lèi)期刊影響因子分別將每個(gè)類(lèi)別分為四個(gè)區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級(jí)版)

大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級(jí)版)

大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級(jí)版)

大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級(jí)版)

大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū)

WOS分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 192 / 352

45.6%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 59 / 119

50.8%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 109 / 179

39.4%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 184 / 354

48.16%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 66 / 120

45.42%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 95 / 179

47.21%

名詞解釋?zhuān)?br />WOS即Web of Science,是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫(kù),Web of Science包括自然科學(xué)、社會(huì)科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息,來(lái)自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會(huì)議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時(shí)會(huì)按照某一個(gè)學(xué)科領(lǐng)域劃分,根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會(huì)在高分區(qū)中,最后的劃分結(jié)果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。

CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
4.5 0.558 0.819
學(xué)科 分區(qū) 排名 百分位
大類(lèi):Engineering 小類(lèi):Electrical and Electronic Engineering Q2 296 / 797

62%

大類(lèi):Engineering 小類(lèi):Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 92 / 224

59%

名詞解釋?zhuān)?br />CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級(jí)衡量經(jīng)過(guò)加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來(lái)源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實(shí)際受引用情況對(duì)照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。

其他數(shù)據(jù)

是否OA開(kāi)放訪(fǎng)問(wèn): h-index: 年文章數(shù):
開(kāi)放 59 347
Gold OA文章占比: 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來(lái)源于搜索引擎): 開(kāi)源占比(OA被引用占比):
99.32% 2.1 0.99...
研究類(lèi)文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) 期刊收錄: 中科院《國(guó)際期刊預(yù)警名單(試行)》名單:
100.00% SCIE

歷年IF值(影響因子):

歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量:

歷年中科院JCR大類(lèi)分區(qū)數(shù)據(jù):

歷年自引數(shù)據(jù):

發(fā)文統(tǒng)計(jì)

2023-2024國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):

國(guó)家/地區(qū) 數(shù)量
CHINA MAINLAND 1195
USA 136
Taiwan 76
England 48
Canada 46
South Korea 39
Japan 38
Saudi Arabia 34
India 32
Singapore 30

2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):

機(jī)構(gòu) 數(shù)量
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 176
HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE &... 102
BEIJING UNIVERSITY OF POSTS & TE... 64
SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY 54
TIANJIN UNIVERSITY 50
TSINGHUA UNIVERSITY 50
BEIJING INSTITUTE OF TECHNOLOGY 46
NANJING UNIVERSITY 36
HARBIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY 34
SHENZHEN UNIVERSITY 34

近年引用統(tǒng)計(jì):

期刊名稱(chēng) 數(shù)量
OPT EXPRESS 2004
OPT LETT 1125
J LIGHTWAVE TECHNOL 770
IEEE PHOTONIC TECH L 601
IEEE PHOTONICS J 490
APPL OPTICS 470
APPL PHYS LETT 455
PHYS REV LETT 291
OPT COMMUN 280
NAT PHOTONICS 243

近年被引用統(tǒng)計(jì):

期刊名稱(chēng) 數(shù)量
OPT EXPRESS 596
IEEE PHOTONICS J 490
OPT COMMUN 423
IEEE ACCESS 394
J LIGHTWAVE TECHNOL 338
APPL OPTICS 252
OPT LETT 180
SENSORS-BASEL 156
OPTIK 153
APPL SCI-BASEL 149

近年文章引用統(tǒng)計(jì):

文章名稱(chēng) 數(shù)量
Surface Plasmon Resonance Sensor... 46
A Dual-Band Tunable Metamaterial... 23
The LED-ID Detection and Recogni... 22
A Band Enhanced Plasma Metamater... 21
Tunable Plasmon Induced Transpar... 20
Minimizing the Number of Spans f... 19
Surface Plasmon Resonance Based ... 18
Hybrid Photonic-Plasmonic Nonblo... 17
Analysis on Location Accuracy fo... 16
A Tilt Receiver Correction Metho... 15

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