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Opto-electronics Review SCIE

Opto-electronics Review

  • ISSN:1230-3402
  • ESSN:1896-3757
  • 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱:OPTO-ELECTRON REV
  • 出版地區(qū):POLAND
  • 出版周期:Quarterly
  • 研究方向:工程技術(shù) - 工程:電子與電氣
  • 出版年份:2006
  • 語(yǔ)言:English
  • 是否OA:未開放
  • 學(xué)科領(lǐng)域

    工程技術(shù)
  • 中科院分區(qū)

    4區(qū)
  • JCR分區(qū)

    Q3
  • IF影響因子

    1.3
  • 是否預(yù)警

期刊簡(jiǎn)介

Journal Title:Opto-electronics Review

Opto-Electronics Review is peer-reviewed and quarterly published by the Polish Academy of Sciences (PAN) and the Association of Polish Electrical Engineers (SEP) in electronic version. It covers the whole field of theory, experimental techniques, and instrumentation and brings together, within one journal, contributions from a wide range of disciplines. The scope of the published papers includes any aspect of scientific, technological, technical and industrial works concerning generation, transmission, transformation, detection and application of light and other forms of radiative energy whose quantum unit is photon. Papers covering novel topics extending the frontiers in optoelectronics or photonics are very encouraged.

It has been established for the publication of high quality original papers from the following fields:

Optical Design and Applications,

Image Processing

Metamaterials,

Optoelectronic Materials,

Micro-Opto-Electro-Mechanical Systems,

Infrared Physics and Technology,

Modelling of Optoelectronic Devices, Semiconductor Lasers

Technology and Fabrication of Optoelectronic Devices,

Photonic Crystals,

Laser Physics, Technology and Applications,

Optical Sensors and Applications,

Photovoltaics,

Biomedical Optics and Photonics

中文簡(jiǎn)介

《光電子評(píng)論》是同行評(píng)審的期刊,由波蘭科學(xué)院 (PAN) 和波蘭電氣工程師協(xié)會(huì) (SEP) 每季度出版一次電子版。它涵蓋了理論、實(shí)驗(yàn)技術(shù)和儀器的整個(gè)領(lǐng)域,并將來(lái)自各個(gè)學(xué)科的論文匯集在一本期刊中。發(fā)表的論文范圍包括科學(xué)、技術(shù)、技術(shù)和工業(yè)工作的任何方面,涉及光和其他形式的輻射能(其量子單位是光子)的產(chǎn)生、傳輸、轉(zhuǎn)換、檢測(cè)和應(yīng)用。非常鼓勵(lì)發(fā)表涉及光電子學(xué)或光子學(xué)前沿的新主題的論文。

它致力于發(fā)表以下領(lǐng)域的高質(zhì)量原創(chuàng)論文:

光學(xué)設(shè)計(jì)與應(yīng)用,

圖像處理

超材料,

光電材料,

微光機(jī)電系統(tǒng),

紅外物理與技術(shù),

光電器件建模,半導(dǎo)體激光器

光電器件技術(shù)與制造,

光子晶體,

激光物理、技術(shù)與應(yīng)用,

光學(xué)傳感器與應(yīng)用,

光伏,

生物醫(yī)學(xué)光學(xué)與光子學(xué)

期刊點(diǎn)評(píng)

Opto-electronics Review創(chuàng)刊于2006年,由Versita出版商出版,收稿方向涵蓋工程技術(shù) - 工程:電子與電氣全領(lǐng)域,此期刊水平偏中等偏靠后,在所屬細(xì)分領(lǐng)域中專業(yè)影響力一般,過(guò)審相對(duì)較易,如果您文章質(zhì)量佳,選擇此期刊,發(fā)表機(jī)率較高。平均審稿速度 12周,或約稿 ,影響因子指數(shù)1.3,該期刊近期沒(méi)有被列入國(guó)際期刊預(yù)警名單,廣大學(xué)者值得一試。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個(gè)大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個(gè)類別分為四個(gè)區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

WOS分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 264 / 352

25.1%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 88 / 119

26.5%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 141 / 179

21.5%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 278 / 354

21.61%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q4 100 / 120

17.08%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 145 / 179

19.27%

名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫(kù),Web of Science包括自然科學(xué)、社會(huì)科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息,來(lái)自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會(huì)議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時(shí)會(huì)按照某一個(gè)學(xué)科領(lǐng)域劃分,根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會(huì)在高分區(qū)中,最后的劃分結(jié)果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。

CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
1.9 0.267 0.525
學(xué)科 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Radiation Q3 35 / 58

40%

大類:Physics and Astronomy 小類:Electrical and Electronic Engineering Q3 518 / 797

35%

大類:Physics and Astronomy 小類:General Materials Science Q3 327 / 463

29%

名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級(jí)衡量經(jīng)過(guò)加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來(lái)源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實(shí)際受引用情況對(duì)照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。

其他數(shù)據(jù)

是否OA開放訪問(wèn): h-index: 年文章數(shù):
未開放 38 55
Gold OA文章占比: 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來(lái)源于搜索引擎): 開源占比(OA被引用占比):
9.52% 1.3 0
研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) 期刊收錄: 中科院《國(guó)際期刊預(yù)警名單(試行)》名單:
94.55% SCIE

歷年IF值(影響因子):

歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量:

歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù):

歷年自引數(shù)據(jù):

發(fā)文統(tǒng)計(jì)

2023-2024國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):

國(guó)家/地區(qū) 數(shù)量
Poland 52
India 22
Russia 11
Ukraine 6
Iran 4
France 3
GERMANY (FED REP GER) 3
Japan 3
CHINA MAINLAND 2
Canada 2

2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):

機(jī)構(gòu) 數(shù)量
MILITARY UNIVERSITY OF TECHNOLOG... 22
WARSAW UNIVERSITY OF TECHNOLOGY 10
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES 7
INSTITUTE OF ELECTRONIC MATERIAL... 5
NATIONAL INSTITUTE OF TECHNOLOGY... 5
INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY S... 4
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... 3
LUCKNOW UNIVERSITY 3
MINISTRY OF EDUCATION & SCIENCE ... 3
NATIONAL ACADEMY OF SCIENCES UKR... 3

近年引用統(tǒng)計(jì):

期刊名稱 數(shù)量
APPL PHYS LETT 85
OPT EXPRESS 70
J APPL PHYS 43
SOL ENERG MAT SOL C 42
J LIGHTWAVE TECHNOL 40
IEEE T NUCL SCI 28
APPL OPTICS 26
OPT LETT 26
NUCL INSTRUM METH A 23
OPT COMMUN 19

近年被引用統(tǒng)計(jì):

期刊名稱 數(shù)量
LIQ CRYST 24
SENSORS-BASEL 22
OPT QUANT ELECTRON 18
OPTIK 18
OPTO-ELECTRON REV 18
INFRARED PHYS TECHN 15
APPL OPTICS 14
J LIGHTWAVE TECHNOL 13
OPT EXPRESS 12
SEMICOND SCI TECH 12

近年文章引用統(tǒng)計(jì):

文章名稱 數(shù)量
Alternative transparent conducti... 21
Analysis of birefringence proper... 14
Recent infrared detector technol... 12
A high-sensitivity photonic crys... 12
Extraction and application of na... 10
Investigation of 2D-photonic cry... 9
A review on the progress of ZnSe... 7
Electrical and optical propertie... 6
Nanostructures with Ge-Si quantu... 6
Numerical investigation of a bro... 5

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