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Plasma Sources Science & Technology SCIE

Plasma Sources Science & Technology

  • ISSN:0963-0252
  • ESSN:1361-6595
  • 國際標(biāo)準(zhǔn)簡稱:PLASMA SOURCES SCI T
  • 出版地區(qū):ENGLAND
  • 出版周期:Bimonthly
  • 研究方向:物理 - 物理:流體與等離子體
  • 出版年份:1992
  • 語言:English
  • 是否OA:未開放
  • 學(xué)科領(lǐng)域

    物理與天體物理
  • 中科院分區(qū)

    2區(qū)
  • JCR分區(qū)

    Q1
  • IF影響因子

    3.3
  • 是否預(yù)警

期刊簡介

Journal Title:Plasma Sources Science & Technology

Plasma Sources Science and Technology (PSST) reports on low-temperature plasmas and ionized gases operating over all ranges of gas pressure and plasma density, with varying degrees of ionization. The emphasis of PSST is on the fundamental science of these plasmas, their sources and the physical and chemical processes initiated or sustained by them, as elucidated through theoretical, computational or experimental techniques. PSST also reports on new experimentally or theoretically derived fundamental data (e.g. cross sections, transport coefficients) required for investigation of low temperature plasmas. Reports that relate to the technology and applications of these plasmas should be closely linked to the science and fundamental processes occurring in the plasma state.

中文簡介

等離子體源科學(xué)與技術(shù) (PSST) 報告了在各種氣壓和等離子體密度范圍內(nèi)運(yùn)行的低溫等離子體和電離氣體,這些氣體具有不同的電離程度。PSST 的重點(diǎn)是這些等離子體的基礎(chǔ)科學(xué)、它們的來源以及由它們引發(fā)或維持的物理和化學(xué)過程,這些過程通過理論、計(jì)算或?qū)嶒?yàn)技術(shù)闡明。PSST 還報告了研究低溫等離子體所需的新的實(shí)驗(yàn)或理論得出的基礎(chǔ)數(shù)據(jù)(例如截面、傳輸系數(shù))。與這些等離子體的技術(shù)和應(yīng)用相關(guān)的報告應(yīng)與等離子體狀態(tài)下發(fā)生的科學(xué)和基本過程緊密相關(guān)。

期刊點(diǎn)評

Plasma Sources Science & Technology創(chuàng)刊于1992年,由IOP Publishing Ltd.出版商出版,收稿方向涵蓋物理 - 物理:流體與等離子體全領(lǐng)域,此刊是該細(xì)分領(lǐng)域中屬于非常不錯的SCI期刊,在行業(yè)細(xì)分領(lǐng)域中學(xué)術(shù)影響力較大,專業(yè)度認(rèn)可很高,所以對原創(chuàng)文章要求創(chuàng)新性較高,如果您的文章質(zhì)量很高,可以嘗試。平均審稿速度 約6.0個月 ,影響因子指數(shù)3.3,該期刊近期沒有被列入國際期刊預(yù)警名單,廣大學(xué)者值得一試。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 1區(qū)

名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個類別分為四個區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 1區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 1區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 1區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 2區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 1區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 1區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 2區(qū)

WOS分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q1 6 / 40

86.3%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q1 6 / 40

86.25%

名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫,Web of Science包括自然科學(xué)、社會科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息,來自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學(xué)科領(lǐng)域劃分,根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中,最后的劃分結(jié)果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。

CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
7.1 0.771 1.373
學(xué)科 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q1 74 / 434

83%

名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級衡量經(jīng)過加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實(shí)際受引用情況對照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。

其他數(shù)據(jù)

是否OA開放訪問: h-index: 年文章數(shù):
未開放 94 242
Gold OA文章占比: 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來源于搜索引擎): 開源占比(OA被引用占比):
26.54% 3.3 0.19...
研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) 期刊收錄: 中科院《國際期刊預(yù)警名單(試行)》名單:
99.17% SCIE

歷年IF值(影響因子):

歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量:

歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù):

歷年自引數(shù)據(jù):

發(fā)文統(tǒng)計(jì)

2023-2024國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):

國家/地區(qū) 數(shù)量
USA 198
CHINA MAINLAND 137
GERMANY (FED REP GER) 136
France 122
Russia 108
Netherlands 61
Japan 56
Czech Republic 53
England 40
Italy 34

2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):

機(jī)構(gòu) 數(shù)量
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... 106
RUHR UNIVERSITY BOCHUM 73
UNIVERSITE PARIS SACLAY 69
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES 63
INSTITUT POLYTECHNIQUE DE PARIS 48
SORBONNE UNIVERSITE 47
EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLO... 45
MASARYK UNIVERSITY BRNO 33
XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY 29
HUNGARIAN ACADEMY OF SCIENCES 27

近年引用統(tǒng)計(jì):

期刊名稱 數(shù)量
PLASMA SOURCES SCI T 1576
J PHYS D APPL PHYS 1276
J APPL PHYS 702
PHYS PLASMAS 595
APPL PHYS LETT 335
IEEE T PLASMA SCI 296
J CHEM PHYS 236
PHYS REV A 227
PHYS REV LETT 189
PHYS REV E 167

近年被引用統(tǒng)計(jì):

期刊名稱 數(shù)量
PLASMA SOURCES SCI T 1576
J PHYS D APPL PHYS 745
PHYS PLASMAS 733
IEEE T PLASMA SCI 427
J APPL PHYS 370
PLASMA CHEM PLASMA P 186
JPN J APPL PHYS 171
PLASMA PROCESS POLYM 165
PLASMA SCI TECHNOL 148
VACUUM 110

近年文章引用統(tǒng)計(jì):

文章名稱 數(shù)量
Review on experimental and theor... 23
The importance of thermal dissoc... 20
Comparison of six simulation cod... 19
The LisbOn KInetics Boltzmann so... 17
Energetic ions during plasma-enh... 17
Foundations of low-temperature p... 17
Foundations of High-Pressure The... 16
Kinetic study of low-temperature... 16
Atmospheric-pressure pulsed plas... 15
Modelling the helium plasma jet ... 14

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Applied Physics Letters 3.5 2區(qū)
Acs Photonics 6.5 1區(qū)
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