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Ieee Electron Device Letters SCIE

Ieee Electron Device Letters

  • ISSN:0741-3106
  • ESSN:1558-0563
  • 國際標準簡稱:IEEE ELECTR DEVICE L
  • 出版地區(qū):UNITED STATES
  • 出版周期:Monthly
  • 研究方向:工程技術 - 工程:電子與電氣
  • 出版年份:1980
  • 語言:English
  • 是否OA:未開放
  • 學科領域

    工程技術
  • 中科院分區(qū)

    2區(qū)
  • JCR分區(qū)

    Q2
  • IF影響因子

    4.1
  • 是否預警

期刊簡介

Journal Title:Ieee Electron Device Letters

IEEE Electron Device Letters publishes original and significant contributions relating to the theory, modeling, design, performance and reliability of electron and ion integrated circuit devices and interconnects, involving insulators, metals, organic materials, micro-plasmas, semiconductors, quantum-effect structures, vacuum devices, and emerging materials with applications in bioelectronics, biomedical electronics, computation, communications, displays, microelectromechanics, imaging, micro-actuators, nanoelectronics, optoelectronics, photovoltaics, power ICs and micro-sensors.

中文簡介

IEEE Electron Device Letters 發(fā)表與電子和離子集成電路器件和互連的理論、建模、設計、性能和可靠性有關的原創(chuàng)性和重要貢獻,涉及絕緣體、金屬、有機材料、微等離子體、半導體、量子效應結構、真空器件和新興材料,應用于生物電子學、生物醫(yī)學電子學、計算、通信、顯示器、微機電學、成像、微執(zhí)行器、納米電子學、光電子學、光伏、功率集成電路和微傳感器。

期刊點評

Ieee Electron Device Letters創(chuàng)刊于1980年,由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版,收稿方向涵蓋工程技術 - 工程:電子與電氣全領域,此刊是該細分領域中屬于非常不錯的SCI期刊,在行業(yè)細分領域中學術影響力較大,專業(yè)度認可很高,所以對原創(chuàng)文章要求創(chuàng)新性較高,如果您的文章質量很高,可以嘗試。平均審稿速度 約1.3個月 ,影響因子指數(shù)4.1,該期刊近期沒有被列入國際期刊預警名單,廣大學者值得一試。

中科院分區(qū)(數(shù)據版本:2023年12月升級版)

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)

名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎版分為13個大類學科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個類別分為四個區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據版本:2022年12月升級版)

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據版本:2021年12月舊的升級版)

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據版本:2021年12月基礎版)

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據版本:2021年12月升級版)

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據版本:2020年12月舊的升級版)

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)

WOS分區(qū)(數(shù)據版本:2023-2024年最新版)

按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 94 / 352

73.4%

按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q1 77 / 354

78.39%

名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學術信息的重要數(shù)據庫,Web of Science包括自然科學、社會科學、藝術與人文領域的信息,來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學術會議多學科內容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學科領域劃分,根據這一學科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中,最后的劃分結果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質量最高。

CiteScore分區(qū)(數(shù)據版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
8.2 1.25 1.5
學科 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q1 128 / 797

84%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q1 51 / 284

82%

名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級衡量經過加權后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權值由施引期刊的學科領域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標準化影響將實際受引用情況對照期刊所屬學科領域中預期的受引用情況進行衡量。

其他數(shù)據

是否OA開放訪問: h-index: 年文章數(shù):
未開放 135 477
Gold OA文章占比: 2021-2022最新影響因子(數(shù)據來源于搜索引擎): 開源占比(OA被引用占比):
4.62% 4.1 0.05...
研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) 期刊收錄: 中科院《國際期刊預警名單(試行)》名單:
100.00% SCIE

歷年IF值(影響因子):

歷年引文指標和發(fā)文量:

歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據:

歷年自引數(shù)據:

發(fā)文統(tǒng)計

2023-2024國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計:

國家/地區(qū) 數(shù)量
CHINA MAINLAND 577
USA 282
South Korea 174
Taiwan 123
Japan 65
England 60
India 49
Belgium 37
GERMANY (FED REP GER) 37
France 32

2023-2024機構發(fā)文量統(tǒng)計:

機構 數(shù)量
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 84
UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM 70
XIDIAN UNIVERSITY 56
NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UN... 49
HONG KONG UNIVERSITY OF SCIENCE ... 48
PEKING UNIVERSITY 42
UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE... 42
INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY S... 36
IMEC 35
NATIONAL SUN YAT SEN UNIVERSITY 35

近年引用統(tǒng)計:

期刊名稱 數(shù)量
IEEE ELECTR DEVICE L 1317
IEEE T ELECTRON DEV 865
APPL PHYS LETT 812
J APPL PHYS 318
ADV MATER 217
NANO LETT 150
ACS APPL MATER INTER 142
SCI REP-UK 138
NATURE 132
APPL PHYS EXPRESS 119

近年被引用統(tǒng)計:

期刊名稱 數(shù)量
IEEE T ELECTRON DEV 1587
IEEE ELECTR DEVICE L 1317
JPN J APPL PHYS 594
APPL PHYS LETT 460
IEEE J ELECTRON DEVI 445
APPL PHYS EXPRESS 366
SEMICOND SCI TECH 277
J APPL PHYS 268
SOLID STATE ELECTRON 257
ECS J SOLID STATE SC 249

近年文章引用統(tǒng)計:

文章名稱 數(shù)量
Enhancement-Mode Ga2O3 Vertical ... 38
An Artificial Neuron Based on a ... 36
Recessed-Gate Enhancement-Mode b... 28
Spin Logic Devices via Electric ... 27
Current Aperture Vertical beta-G... 27
beta-Ga2O3 Delta-Doped Field-Eff... 26
Vertical Ga2O3 Schottky Barrier ... 24
1.85 kV Breakdown Voltage in Lat... 24
Vertical Ga(2)O(3 )Schottky Barr... 23
First Demonstration of a Logic-P... 22

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免責聲明

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