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Plasma Chemistry And Plasma Processing SCIE

Plasma Chemistry And Plasma Processing

  • ISSN:0272-4324
  • ESSN:1572-8986
  • 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱:PLASMA CHEM PLASMA P
  • 出版地區(qū):UNITED STATES
  • 出版周期:Quarterly
  • 研究方向:工程技術(shù) - 工程:化工
  • 出版年份:1981
  • 語(yǔ)言:English
  • 是否OA:未開(kāi)放
  • 學(xué)科領(lǐng)域

    物理與天體物理
  • 中科院分區(qū)

    3區(qū)
  • JCR分區(qū)

    Q2
  • IF影響因子

    2.6
  • 是否預(yù)警

期刊簡(jiǎn)介

Journal Title:Plasma Chemistry And Plasma Processing

Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry and plasma processing, the scope of this journal includes processing plasmas ranging from non-thermal plasmas to thermal plasmas, and fundamental plasma studies as well as studies of specific plasma applications. Such applications include but are not limited to plasma catalysis, environmental processing including treatment of liquids and gases, biological applications of plasmas including plasma medicine and agriculture, surface modification and deposition, powder and nanostructure synthesis, energy applications including plasma combustion and reforming, resource recovery, coupling of plasmas and electrochemistry, and plasma etching. Studies of chemical kinetics in plasmas, and the interactions of plasmas with surfaces are also solicited. It is essential that submissions include substantial consideration of the role of the plasma, for example, the relevant plasma chemistry, plasma physics or plasma–surface interactions; manuscripts that consider solely the properties of materials or substances processed using a plasma are not within the journal’s scope.

中文簡(jiǎn)介

本期刊發(fā)表有關(guān)等離子體化學(xué)和等離子體處理基礎(chǔ)和應(yīng)用研究的原創(chuàng)論文,范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎(chǔ)研究以及特定等離子體應(yīng)用的研究。此類應(yīng)用包括但不限于等離子體催化、環(huán)境處理(包括液體和氣體處理)、等離子體的生物應(yīng)用(包括等離子體醫(yī)學(xué)和農(nóng)業(yè))、表面改性和沉積、粉末和納米結(jié)構(gòu)合成、能源應(yīng)用(包括等離子體燃燒和重整)、資源回收、等離子體與電化學(xué)的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學(xué)動(dòng)力學(xué)研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用,例如相關(guān)的等離子體化學(xué)、等離子體物理或等離子體-表面相互作用;僅考慮使用等離子體處理的材料或物質(zhì)的性質(zhì)的稿件不在本期刊的范圍內(nèi)。

期刊點(diǎn)評(píng)

Plasma Chemistry And Plasma Processing創(chuàng)刊于1981年,由Springer US出版商出版,收稿方向涵蓋工程技術(shù) - 工程:化工全領(lǐng)域,此刊是中等級(jí)別的SCI期刊,所以過(guò)審相對(duì)來(lái)講不是特別難,但是該刊專業(yè)認(rèn)可度不錯(cuò),仍然是一本值得選擇的SCI期刊 。平均審稿速度 較慢,6-12周 ,影響因子指數(shù)2.6,該期刊近期沒(méi)有被列入國(guó)際期刊預(yù)警名單,廣大學(xué)者值得一試。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個(gè)大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個(gè)類別分為四個(gè)區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū) 3區(qū) 2區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級(jí)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

WOS分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170

46.8%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

55%

學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40

71.3%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171

68.13%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73%

學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40

58.75%

名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫(kù),Web of Science包括自然科學(xué)、社會(huì)科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息,來(lái)自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會(huì)議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時(shí)會(huì)按照某一個(gè)學(xué)科領(lǐng)域劃分,根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會(huì)在高分區(qū)中,最后的劃分結(jié)果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。

CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
5.9 0.48 0.912
學(xué)科 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q1 108 / 434

75%

大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films Q2 34 / 132

74%

大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemical Engineering Q2 79 / 273

71%

大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemistry Q2 119 / 408

70%

名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級(jí)衡量經(jīng)過(guò)加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來(lái)源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實(shí)際受引用情況對(duì)照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。

其他數(shù)據(jù)

是否OA開(kāi)放訪問(wèn): h-index: 年文章數(shù):
未開(kāi)放 57 123
Gold OA文章占比: 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來(lái)源于搜索引擎): 開(kāi)源占比(OA被引用占比):
14.18% 2.6 0.09...
研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) 期刊收錄: 中科院《國(guó)際期刊預(yù)警名單(試行)》名單:
95.12% SCIE

歷年IF值(影響因子):

歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量:

歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù):

歷年自引數(shù)據(jù):

發(fā)文統(tǒng)計(jì)

2023-2024國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):

國(guó)家/地區(qū) 數(shù)量
CHINA MAINLAND 70
Russia 37
USA 29
France 26
GERMANY (FED REP GER) 21
Czech Republic 15
Iran 14
India 12
Japan 12
Poland 11

2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):

機(jī)構(gòu) 數(shù)量
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES 24
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... 21
CZECH ACADEMY OF SCIENCES 10
XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY 10
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 9
DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY 9
COMENIUS UNIVERSITY BRATISLAVA 7
IVANOVO STATE UNIVERSITY OF CHEM... 7
STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORI... 7
KOREA UNIVERSITY 6

近年引用統(tǒng)計(jì):

期刊名稱 數(shù)量
J PHYS D APPL PHYS 308
PLASMA CHEM PLASMA P 289
PLASMA SOURCES SCI T 186
IEEE T PLASMA SCI 101
PLASMA PROCESS POLYM 97
J APPL PHYS 74
CHEM ENG J 69
APPL PHYS LETT 64
APPL CATAL B-ENVIRON 58
J CHEM PHYS 53

近年被引用統(tǒng)計(jì):

期刊名稱 數(shù)量
PLASMA CHEM PLASMA P 289
J PHYS D APPL PHYS 241
IEEE T PLASMA SCI 106
PLASMA SCI TECHNOL 95
CHEM ENG J 92
PLASMA SOURCES SCI T 82
PLASMA PROCESS POLYM 79
PHYS PLASMAS 48
SURF COAT TECH 46
J APPL PHYS 39

近年文章引用統(tǒng)計(jì):

文章名稱 數(shù)量
Effect of Cold Atmospheric Press... 23
Cold Atmospheric Pressure Plasma... 14
Inactivation of Shewanella putre... 13
Seed Priming with Non-thermal Pl... 13
Stimulation of the Germination a... 12
Evaluation of Oxidative Species ... 12
Non-thermal Plasma Induced Expre... 11
Effect of the Magnetic Field on ... 9
On the Possibilities of Straight... 8
Plasma Activated Organic Fertili... 8

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免責(zé)聲明

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